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光刻设备≠光刻机（第1页）

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光刻设备≠光刻机（第11页）

一、1931年：鲁斯卡使用冷阴极放电电子源和三个电子透镜改装高压示波器，次实现电子显微成像。

1932年：鲁斯卡进一步改进设计，将分辨率提升至50纳米，标志着电子显微镜进入实用阶段。

二、世界上第一台五坐标联动数控机床诞生于1991r0n）生产。

三、1881年：德国科学家马克斯·舒勒（achu1er）明了第一台光刻机，用于印刷术。

1952年：美国科学家理查德·霍夫（richardh0ve）和弗雷德里克·特勒（frederickte11er）明了第一台电子束光刻机，用于半导体制造。

1958年：美国德克萨斯仪器公司（texasstrunts）试制成功世界上第一块平面集成电路，标志着光刻技术开始应用于半导体领域。

1959年：荷兰飞利浦公司研出第一台商用光刻机，应用于半导体产业。

1955年，贝尔实验室的ju1esandr和91a1terlb0nd开始采用光刻技术在印刷电路板上制作图案，使用二氧化硅层在硅片上产生更精细、更复杂的设计。

1957年，美国陆军dia0nd0rdnancefe实验室的jaythr0p和jasna11获得了光刻技术的专利，该技术用于沉积约200微米宽的薄膜金属条。

1958年，fair0yce制造了批“步进重复”

相机之一，利用光刻技术在单个晶圆上制造了许多相同的硅晶体管。

1959年，g，成为光刻技术的先驱之一。

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